One-step direct-patterning template utilizing self-assembly of POSS-containing block copolymers

Tomoyasu Hirai, Melvina Leolukman, Chi Chun Liu, Eungnak Han, Yun Jun Kim, Yoshihito Ishida, Teruaki Hayakawa, Masa Aki Kakimoto, Paul F. Nealey, Padma Gopalan

研究成果: Contribution to journalArticle査読

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抄録

(Figure Presented) We report the self-assembly of organic-inorganic block copolymers (BCP) in thin-films by simple solvent annealing on unmodified substrates. The resulting vertically oriented lamellae and cylinders are converted to a hard silica mask by a single step highly selective oxygen plasma etching. The size of the resulting nanostructures in the case of cylinders is less than 10 nm.

本文言語英語
ページ(範囲)4334-4338
ページ数5
ジャーナルAdvanced Materials
21
43
DOI
出版ステータス出版済み - 11 20 2009

All Science Journal Classification (ASJC) codes

  • 材料科学(全般)
  • 材料力学
  • 機械工学

フィンガープリント

「One-step direct-patterning template utilizing self-assembly of POSS-containing block copolymers」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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