Production of electron cyclotron resonance plasma for uniform deposition using a TE01 mode microwave

Ryota Hidaka, Toru Yamaguchi, Akihisa Tsuruta, Masayoshi Tanaka, Yoshinobu Kawai

    研究成果: ジャーナルへの寄稿学術誌査読

    3 被引用数 (Scopus)

    抄録

    An electron cyclotron resonance (ECR) plasma is produced at pressures up to 10 mTorr with a circular TE01 mode microwave. The plasma density is almost radially uniform even at 10 mTorr. SiC films are formed on silicon wafers by introducing methane gas into the ECR plasma. It is shown that a circular TE01 mode microwave is useful for the ECR plasma chemical vapor deposition (CVD).

    本文言語英語
    ページ(範囲)1590-1593
    ページ数4
    ジャーナルReview of Scientific Instruments
    65
    5
    DOI
    出版ステータス出版済み - 1994

    !!!All Science Journal Classification (ASJC) codes

    • 器械工学

    フィンガープリント

    「Production of electron cyclotron resonance plasma for uniform deposition using a TE01 mode microwave」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

    引用スタイル