Properties of nano-crystalline silicon films for top solar cells

Shinya Iwasita, Toshihisa Inoue, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani, Shota Nunomura, Michio Kondo

研究成果: 書籍/レポート タイプへの寄稿会議への寄与

抄録

Nano-crystalline Si films are deposited using multi-hollow plasma CVD. The films have a wide optical band gap of 1.75 eV and a large absorption coefficient similar to those of a-Si:H films. They also have a low initial defect density of 3×1015 cm3 and show high stability against light soaking. These results suggest that nano-crystalline Si films are promising materials for top cells.

本文言語英語
ホスト出版物のタイトルConference Record of the 2006 IEEE 4th World Conference on Photovoltaic Energy Conversion, WCPEC-4
出版社IEEE Computer Society
ページ1664-1667
ページ数4
ISBN(印刷版)1424400163, 9781424400164
DOI
出版ステータス出版済み - 1月 1 2006
イベント2006 IEEE 4th World Conference on Photovoltaic Energy Conversion, WCPEC-4 - Waikoloa, HI, 米国
継続期間: 5月 7 20065月 12 2006

出版物シリーズ

名前Conference Record of the 2006 IEEE 4th World Conference on Photovoltaic Energy Conversion, WCPEC-4
2

その他

その他2006 IEEE 4th World Conference on Photovoltaic Energy Conversion, WCPEC-4
国/地域米国
CityWaikoloa, HI
Period5/7/065/12/06

!!!All Science Journal Classification (ASJC) codes

  • 再生可能エネルギー、持続可能性、環境
  • 電子工学および電気工学
  • 電子材料、光学材料、および磁性材料
  • 材料化学

フィンガープリント

「Properties of nano-crystalline silicon films for top solar cells」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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