R.F. bias effect on ECR plasma

M. Murata, Y. Takeuchi, Y. Kai, M. Tanaka, Y. Kawai

    研究成果: Contribution to journalArticle査読

    1 被引用数 (Scopus)

    抄録

    An electron cyclotron resonance plasma is produced with a multislot antenna, where r.f. powers (13.56 MHz) are applied to a substrate. Plasma parameters measured with a probe are examined as a function of r.f. power and pressure. It is found that when the r.f. powers are applied, negative self-bias potential appears and the plasma density tends to decrease and the plasma potential increases. Furthermore, the effect of the negative self-bias potential on the radial profile of plasma parameters is discussed.

    本文言語英語
    ページ(範囲)512-515
    ページ数4
    ジャーナルSurface and Coatings Technology
    74-75
    PART 1
    DOI
    出版ステータス出版済み - 9 1995

    All Science Journal Classification (ASJC) codes

    • 化学 (全般)
    • 凝縮系物理学
    • 表面および界面
    • 表面、皮膜および薄膜
    • 材料化学

    フィンガープリント

    「R.F. bias effect on ECR plasma」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

    引用スタイル