Room temperature deposition of silicon oxynitride films with low stress using sputtering-type electron cyclotron resonance plasmas

D. Gao, K. Furukawa, H. Nakashima, J. Gao, J. Wang, K. Muraoka

    研究成果: ジャーナルへの寄稿会議記事査読

    1 被引用数 (Scopus)

    フィンガープリント

    「Room temperature deposition of silicon oxynitride films with low stress using sputtering-type electron cyclotron resonance plasmas」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

    Engineering & Materials Science

    Chemical Compounds

    Physics & Astronomy