Significance of kinetic-linkage of oxygen vacancy with SiO2/Si interface for SiO2-IL scavenging in HfO2 gate stacks

Xiuyan Li, Takeaki Yajima, Tomonori Nishimura, Akira Toriumi

研究成果: 書籍/レポート タイプへの寄稿会議への寄与

フィンガープリント

「Significance of kinetic-linkage of oxygen vacancy with SiO2/Si interface for SiO2-IL scavenging in HfO2 gate stacks」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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Chemical Compounds