Study of Depth Distribution Shift of Copper on Silicon Wafer Surface Using Total Reflection X-Ray Fluorescence Spectrometry

Yoshihiro Mori, Kengo Shimanoe

研究成果: ジャーナルへの寄稿コメント/討論査読

7 被引用数 (Scopus)
本文言語英語
ページ(範囲)277-279
ページ数3
ジャーナルanalytical sciences
12
2
DOI
出版ステータス出版済み - 4月 1996

!!!All Science Journal Classification (ASJC) codes

  • 分析化学

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