Suppressing plasma induced degradation of gate oxide using silicon-on-insulator structures

Kiyoshi Arita, Masashi Akamatsu, Tanemasa Asano

研究成果: Contribution to journalArticle査読

1 被引用数 (Scopus)

フィンガープリント 「Suppressing plasma induced degradation of gate oxide using silicon-on-insulator structures」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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