Surface flattening of poly-Si thin films by laser annealing and electrical properties of LTPS-TFTs

Fuminobu Hamano, Akira Mizutani, Kaname Imokawa, Daisuke Nakamura, Tetsuya Goto, Hiroshi Ikenoue

研究成果: 書籍/レポート タイプへの寄稿会議への寄与

1 被引用数 (Scopus)

抄録

Low-temperature poly-Si (LTPS) thin films formed by excimer laser annealing (ELA) are used as the channel material for thin film transistors (TFTs), which have an application as switching devices in flat panel displays. It is well known that one of the major problems in TFT manufacturing is the prominent ridges that form on LTPS thin films after ELA due to volume expansion by crystallization, which in turn induces gate leakage current in the TFTs. In this presentation, we report on the use of additional laser irradiation to reduce the height of the ridges and resulting changes in the electrical properties of LTPS-TFTs.

本文言語英語
ホスト出版物のタイトルLaser-Based Micro- and Nanoprocessing XIV
編集者Udo Klotzbach, Akira Watanabe, Rainer Kling
出版社SPIE
ISBN(電子版)9781510632998
DOI
出版ステータス出版済み - 2020
イベントLaser-Based Micro- and Nanoprocessing XIV 2020 - San Francisco, 米国
継続期間: 2月 3 20202月 6 2020

出版物シリーズ

名前Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering
11268
ISSN(印刷版)0277-786X
ISSN(電子版)1996-756X

会議

会議Laser-Based Micro- and Nanoprocessing XIV 2020
国/地域米国
CitySan Francisco
Period2/3/202/6/20

!!!All Science Journal Classification (ASJC) codes

  • 電子材料、光学材料、および磁性材料
  • 凝縮系物理学
  • コンピュータ サイエンスの応用
  • 応用数学
  • 電子工学および電気工学

フィンガープリント

「Surface flattening of poly-Si thin films by laser annealing and electrical properties of LTPS-TFTs」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

引用スタイル