The origin of gate bias stress instability and hysteresis in monolayer WS2 transistors

Changyong Lan, Xiaolin Kang, You Meng, Renjie Wei, Xiuming Bu, Sen Po Yip, Johnny C. Ho

研究成果: ジャーナルへの寄稿学術誌査読

8 被引用数 (Scopus)

フィンガープリント

「The origin of gate bias stress instability and hysteresis in monolayer WS2 transistors」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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