The reason why thin-film silicon grows layer by layer in plasma-enhanced chemical vapor deposition

Takuya Kuwahara, Hiroshi Ito, Kentaro Kawaguchi, Yuji Higuchi, Nobuki Ozawa, Momoji Kubo

研究成果: ジャーナルへの寄稿学術誌査読

13 被引用数 (Scopus)

フィンガープリント

「The reason why thin-film silicon grows layer by layer in plasma-enhanced chemical vapor deposition」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

Physics

Earth and Planetary Sciences