本文言語 | 英語 |
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ページ(範囲) | 6117-6122 |
ページ数 | 6 |
ジャーナル | Japanese Journal of Applied Physics, Part 2: Letters |
巻 | 37 |
号 | 11 |
出版ステータス | 出版済み - 11月 15 1998 |
Thin CoSi_2 Formation on SiO_2 with Low-Energy Ion Irradiation
Atsushi Matsushita, Taizoh Sadoh, Toshio Tsurushima
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