Ultra-low temperature (≤300 °C) growth of Ge-rich SiGe by solid-liquid-coexisting annealing of a-GeSn/c-Si structures

Taizoh Sadoh, Hironori Chikita, Ryo Matsumura, Masanobu Miyao

研究成果: ジャーナルへの寄稿学術誌査読

4 被引用数 (Scopus)

フィンガープリント

「Ultra-low temperature (≤300 °C) growth of Ge-rich SiGe by solid-liquid-coexisting annealing of a-GeSn/c-Si structures」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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