X-ray photoelectron spectroscopy study of polyimide thin films with Ar cluster ion depth profiling

T. Miyayama, N. Sanada, M. Suzuki, J. S. Hammond, S. Q.D. Si, A. Takahara

研究成果: Contribution to journalArticle査読

46 被引用数 (Scopus)

抄録

X-ray photoelectron spectroscopy depth profiling of polyimide thin films on silicon substrates using an Ar cluster ion beam results in an extremely low degradation of the polyimide chemistry. In the range from 2.5 to 20 kV, a lower cluster ion energy produces a lower sputter induced damage to the polymer and results in an improved polyimide to silicon interface width. The sputtering rates of the polyimide are found to increase exponentially with an increase in the Ar cluster ion energy.

本文言語英語
ページ(範囲)L1-L4
ジャーナルJournal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films
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DOI
出版ステータス出版済み - 3 19 2010

All Science Journal Classification (ASJC) codes

  • 凝縮系物理学
  • 表面および界面
  • 表面、皮膜および薄膜

フィンガープリント

「X-ray photoelectron spectroscopy study of polyimide thin films with Ar cluster ion depth profiling」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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